ISO 8181-2023 PDF

Полное наименование и описание

ISO 8181:2023 — Atomic layer deposition — Vocabulary. Международный стандарт, содержащий терминологию и пояснения, связанные с процессами и методами атомно-слоевого осаждения (ALD).

Аннотация

Документ определяет общие термины и процессы роста плёнок для атомно-слоевого осаждения, классифицирует методы (включая временно-разделённый ALD, пространственный ALD, порошковый ALD и некоторые энергоусиленные методы) и уточняет область применения стандарта (процесс ALD, без применения к конкретным материалам или наноструктурам). Предназначен для промышленного производства, научных исследований, обучения и публикаций.

Общая информация

• Статус: Published (международный стандарт).
• Дата публикации: 2023-10 (издание 1, 2023).
• Организация-издатель: International Organization for Standardization (ISO).
• ICS / категории: 01.040.25; 25.220.01.
• Редакция / версия: Edition 1 (2023).
• Количество страниц: 10 (ISO — метаданные публикации).

Область применения

Стандарт применяется к процессам атомно-слоевого осаждения (ALD) и определению терминов, используемых при описании различных методов ALD и сопутствующих операций. Не распространяется на конкретные материалы, составы плёнок или детальные конструкции наноструктур; ориентирован на единообразие терминологии в промышленности, науке и образовании.

Ключевые темы и требования

• Единые определения терминов, связанных с ALD (термины для процессов, кинетики, типов установок и методов контроля качества).
• Классификация методов ALD: временно-разделённый (time-separated) и пространственный (spatial) ALD.
• Определение и терминология для порошкового (powder) ALD и энергоусиленных вариантов ALD.
• Ограничение области применения: терминология процессов, но не требований к конкретным материалам или свойствам конечных покрытий.
• Назначение — обеспечить согласованность при обмене информацией, публикации и стандартизации в смежных областях (микроэлектроника, фотоэлектрика, дисплеи, энергетика, катализ и др.).

Применение и пользователи

Полезен для инженеров и технологов в микроэлектронике и производстве тонкоплёночных покрытий, исследователей в области материаловедения и нанотехнологий, преподавателей и авторов научных публикаций, а также для специалистов по стандартизации и разработчиков оборудования ALD. Применяется при подготовке технической документации, спецификаций и научных отчетов.

Связанные стандарты

Стандарт разработан в рамках деятельности технического комитета ISO/TC 107 (покрытия) и может дополняться национальными адаптациями и публикациями (например, выпуск BS ISO 8181:2023 на национальном уровне). Рекомендуется сверять связанные термины и локальные редакции при внедрении в нормативную и закупочную документацию.

Ключевые слова

атомно-слоевое осаждение, ALD, терминология, словарь, тонкоплёночные покрытия, powder ALD, spatial ALD, energy-enhanced ALD, ISO 8181.

FAQ

В: Что это за стандарт?

О: Международный терминологический стандарт ISO 8181:2023, содержащий словарь и определения, применяемые в области атомно-слоевого осаждения (ALD).

В: Что он регулирует?

О: Не «регулирует» технические требования к материалам или процессам; стандарт устанавливает единые определения и классификации процессов ALD (временно-разделённый, пространственный, порошковый и др.), что упрощает коммуникацию и документацию в отрасли.

В: Кто обычно использует?

О: Инженеры и исследователи в микроэлектронике, фотоэлектрике, дисплейной индустрии, энергетике и катализе, а также разработчики оборудования ALD, преподаватели и специалисты по стандартизации.

В: Он актуален или заменён?

О: На момент публикации (издание 1 — 2023) стандарт опубликован и является действующим международным стандартом; для проверки актуальности (например, наличия поправок или замены) следует сверяться с официальным реестром ISO.

В: Это часть серии?

О: Стандарт сосредоточен на терминологии ALD и входит в работу технического комитета по покрытиям; может дополняться и согласовываться с другими документами по тонким плёнкам и поверхностным покрытиям, но сам по себе является единичным терминологическим изданием (Edition 1, 2023).

В: Какие ключевые слова?

О: ALD, atomic layer deposition, терминология, словарь, тонкоплёнки, spatial ALD, powder ALD, energy-enhanced ALD, ISO 8181:2023.